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NATIONAL STANDARD OF THE PEOPLE'S REPUBLIC OF CHINA
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GB/T 26070-2010
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化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method |
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Issued Date: |
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Implemented Date: |
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Issued by: |
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The Standardization Administration of the People's Republic of China |
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| 標準代碼 |
GB/T 26070-2010 |
| 標準類別 |
中華人民共和國国家標準 |
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標準中文名稱 |
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 （英文版） |
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標準英文名稱 |
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method |
| 中文版價格 |
每1頁 ￥1元 |
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英文版翻譯費 |
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